Печь для графитизации высокой чистоты 3000 °C с комбинированной химической и тепловой обработкой 99,99% углеродных материалов

Вакуумная печь графитизации для очистки углеродных нанотрубок высокой чистоты с комбинированной химической и термической обработкой

Печь для очистки углеродного материала высокой чистоты сочетает в себе термическую графитацию при температуре 3000 ℃ и методы химической обработки. Этот двойной подход обеспечивает уровень чистоты 99,99%, необходимый для полупроводниковой, аэрокосмической и современной электроники.

Ключевые особенности

• Комбинированный метод высокотемпературной графитации и химической очистки.
• Достижение чистоты 99,99% подтверждено сторонним тестированием.
• Рабочая температура 3000 ℃ с точным контролем атмосферы.
• Система дозирования химикатов с автоматическим впрыском и очисткой выхлопных газов
• Система отслеживания партий с сертификацией чистоты на каждую производственную партию

Приложения

Критически важен для производства углеродных нанотрубок полупроводникового класса, аэрокосмических композитных материалов, компонентов медицинского оборудования и современной электроники, требующих углеродных наноматериалов сверхвысокой чистоты.

Технические преимущества

• Метод двойной очистки обеспечивает уровень чистоты, недостижимый только при термической обработке.
• Чистота 99,99 % подтверждена независимым лабораторным анализом.
• Автоматизированное дозирование химикатов обеспечивает единообразную обработку всех партий.
• Сертификация чистоты каждой партии обеспечивает документальную гарантию качества.

Послепродажное обслуживание

Комплексная гарантия 1 год с удаленной технической поддержкой. Возможна установка и обучение на месте. Запасные части поставляются в течение 7 рабочих дней. Включена пожизненная техническая консультация.