logo
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
продукты
Дом /

продукты

Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников

Подробная информация о продукции

Место происхождения: ХУНАН, Китай

Фирменное наименование: Jingtan

Условия оплаты и доставки

Количество мин заказа: 1

Цена: $56,000

Получите самую лучшую цену
Контакт теперь
Спецификации
Выделить:

Печь для графитизации грузоподъемностью 375 л

,

500x500x1500 Размер камеры Очистительная печь

,

Вакуумная синтерирующая машина с однородностью температуры ±5°C

Тип:
Индукционная печь
Напряжение:
380
Масса:
5 Т
Предельная температура:
2400℃
Метод отопления:
Сопротивление для нагрева графитовых стержней
Модель управления:
Ручное или автоматическое
Рабочая атмосфера:
Защита от вакуума или инертного газа
Грузоподъемность:
375L
Размер камеры:
500*500*1500
Температурная равномерность:
± 5°C
Структура печи:
горизонтальный
Материал корпуса печи:
SS 304
ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ЗОНА:
500*500*1500
Разница температуры:
± 5°C
Основные компоненты:
ПЛК, сосуд под давлением, насос, цилиндр
Тип:
Индукционная печь
Напряжение:
380
Масса:
5 Т
Предельная температура:
2400℃
Метод отопления:
Сопротивление для нагрева графитовых стержней
Модель управления:
Ручное или автоматическое
Рабочая атмосфера:
Защита от вакуума или инертного газа
Грузоподъемность:
375L
Размер камеры:
500*500*1500
Температурная равномерность:
± 5°C
Структура печи:
горизонтальный
Материал корпуса печи:
SS 304
ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ЗОНА:
500*500*1500
Разница температуры:
± 5°C
Основные компоненты:
ПЛК, сосуд под давлением, насос, цилиндр
Описание
Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников
Очистка полупроводников с комбинацией химического и высокотемпературного методов
Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 0 Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 1
Печь для очистки углеродных нанотрубок

Комбинированная очистка высокотемпературным методом и химическим методом. Подходит для новых энергетических транспортных средств, полупроводников, новых материалов и многих других областей.

Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 2 Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 3

Тепловая обработка материалов анода батареи, порошковой металлургии, наноматериалов, графена, новых материалов и порошковых материалов в вакуумной атмосфере,и высокотемпературное сцинтерирование и очистка в инертной атмосфере.

Модель TCL-45 TCL-128 TCL-375 TCL-720 TCL-1568 TCL-2560 TCL-5000 TCL-7200 TCL-11700
Зона высокой температуры (мм) 300*300*500 400*400*800 500*500*1500 600*600*2000 700*700*3200 800*800*4000 1000*1000*5000 1200*1200*5000 1500*1500*5200
Грузоподъемность 45 128 375 720 1568 2560 5000 7200 11700
Разница температуры ± 5 ± 10 ± 15
Предельная температура 2400
Режим нагрева сопротивление нагрева графитового стержня
Модель управления ручная или автоматическая работа
Рабочая атмосфера в печи защита от вакуума или инертного газа (микропозитивное давление)
Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 4 Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 5
  • Он может быть использован для очистки углеродных нанотрубок высокотемпературной графитизацией и может реализовать очистную обработку методом высокой температуры в сочетании с химическим методом.
  • Он может осуществлять непрерывное питание и разгрузку при высокой температуре, снижая потребление энергии и сокращая производственный цикл.
  • Используйте сопротивление или индукционное нагревание, температура может достигать 2400°C.
  • Сочетание высокотемпературного метода и химического метода может удовлетворить требованиям обработки высокой чистоты.
  • Эффективная система фильтрации может эффективно улавливать пыль и коррозионные газы, образующиеся в процессе очистки.
  • Он может осуществлять непрерывное питание и разгрузку при высокой температуре, снижая потребление энергии и сокращая производственный цикл.
Часто задаваемые вопросы
Вы завод или торговая компания?
Да, мы являемся ведущим в Китае производителем высокотемпературных вакуумных печей с 14-летним опытом, получившим множество патентных сертификатов на внутреннем рынке.
У вас есть услуги по настройке или OEM?
Да, у нас есть мощная команда исследований и разработок и высокотехнологичное оборудование. Мы можем поставлять как обычные модели, так и настраиваемые печи в соответствии с требованиями клиента.
Каковы твои преимущества?
  • Быстрый ответ на ваш запрос
  • Высокий контроль качества
  • Стабильная цепочка поставок на внутреннем рынке
  • Своевременная доставка
  • Отличное послепродажное обслуживание, включая отправку инженера для установки и отладки
Контактная информация
Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 6 Печь для графитизации с грузоподъемностью 375 л 500x500x1500 Размер камеры и ±5°C Однородность температуры для очистки полупроводников 7
Аналогичные продукты
Получите самую лучшую цену
Отправьте запрос
Пожалуйста, отправьте нам свой запрос, и мы ответим вам как можно скорее.
Отправьте